- Zusammenfassung
Marktgröße für chemisch-mechanische Planarisierungs-(CMP)-Slurrys:
Consegic Business Intelligence geht davon aus, dass der Markt für chemisch-mechanische Planarisierungs-(CMP)-Slurrys bis 2032 ein Volumen von über 854,3 Millionen US-Dollar erreichen wird, ausgehend von 525,62 Millionen US-Dollar im Jahr 2024. Für 2025 wird ein Wachstum von 549,15 Millionen US-Dollar prognostiziert, was einer jährlichen Wachstumsrate von 6,3 % zwischen 2025 und 2032 entspricht.
Marktumfang und -übersicht für chemisch-mechanische Planarisierungs-(CMP)-Slurrys:
Chemisch-mechanische Planarisierungs-(CMP)-Slurries sind ein Verfahren, bei dem nanometergroßes Schleifpulver in einer chemisch reaktiven Lösung verteilt wird. Der chemische Ätzprozess in chemisch-mechanischen Planarisierungsschlämmen (CMP) erweicht das Material. Darüber hinaus sorgen die chemisch-mechanischen Planarisierungsschlämme (CMP) für einen effizienten mechanischen Abrieb. Dieser Prozess entfernt das Material, glättet dadurch die topografischen Merkmale und sorgt für eine planare Oberfläche. Zu den wichtigsten Kornarten von chemisch-mechanischen Planarisierungsschlämmen (CMP) gehören Aluminiumoxid, Zirkonoxid, Diamant und andere. Diese Kornarten gewährleisten hervorragende Leistungsergebnisse der chemisch-mechanischen Planarisierungsschlämme (CMP). Daher eignen sich chemisch-mechanische Planarisierungspasten (CMP) ideal für verschiedene Anwendungen, darunter Halbleiter, integrierte Schaltungen, optische Substrate, Photovoltaikmodule und mehr.
Markteinblicke in chemisch-mechanische Planarisierungspasten (CMP):
Marktdynamik für chemisch-mechanische Planarisierungs-(CMP)-Slurrys – (DRO):
Wichtige Treiber:
Der zunehmende Einsatz von Halbleitern trägt zum Marktwachstum bei
Chemisch-mechanische Planarisierungs-(CMP)-Slurrys werden im Herstellungsprozess von Halbleitern eingesetzt, um glattere Oberflächen zu erzeugen. Wichtige Trends wie öffentlich-private Partnerschaften, Anreizprogramme, die Ansiedlung ausländischer Unternehmen in ihren Ländern, Steuererleichterungen und weitere fördern das Produktionswachstum im Halbleiterbereich. So verabschiedete die Europäische Kommission 2022 den European Chips Act als Teil des wirksamen Maßnahmenpakets der EU zur Gewährleistung von Versorgungssicherheit, Resilienz und Europas technologischer Führungsrolle in der Halbleiterindustrie. Der European Chips Act soll bis 2030 43 Milliarden Euro (49,2 Milliarden US-Dollar) an öffentlichen und privaten Mitteln für die europäische Halbleiterindustrie bereitstellen. Dank neuer Regierungsinitiativen nimmt die Halbleiterproduktion zu. Die zunehmende Anwendung von Halbleitern treibt somit die Nachfrage nach chemisch-mechanischen Planarisierungspasten (CMP) zur effizienten Entfernung überschüssiger Materialien an. Dies wiederum treibt das Marktwachstum voran.
Zunehmende Verwendung von chemisch-mechanischen Planarisierungspasten (CMP) in integrierten Schaltkreisen
Chemisch-mechanische Planarisierungspasten (CMP) werden häufig in integrierten Schaltkreisen eingesetzt, um die gewünschte Planarität des Substrats und der abgeschiedenen Schichten zu erreichen. Die Entwicklung neuer Produktionsanlagen, der technologische Fortschritt in der Elektronik- und Montageindustrie und andere wichtige Faktoren treiben die Produktion integrierter Schaltkreise voran. Laut den kürzlich veröffentlichten Daten der Japan Electronics and Information Technology Industries Association (JEITA) belief sich die weltweite Elektronikproduktion, einschließlich integrierter Schaltkreise, im Jahr 2020 auf 30.337 Milliarden US-Dollar und im Jahr 2021 auf 33.602 Milliarden US-Dollar, was einer jährlichen Wachstumsrate von 10,8 % entspricht. Der Anstieg der Produktion integrierter Schaltkreise treibt daher die Nachfrage nach chemisch-mechanischer Planarisierungspaste (CMP) zum Glätten von Unebenheiten an. Dieser Hauptfaktor verstärkt das Marktwachstum.
Wichtigste Einschränkungen:
Leistungseinschränkungen im Zusammenhang mit chemisch-mechanischen Planarisierungs-(CMP)-Slurrys bremsen den Markt Wachstum
Der chemisch-mechanische Planarisierungsschlamm (CMP) unterliegt strengen physikalischen Bedingungen. Daher kann er im Vergleich zu anderen Prozessschritten der Halbleiterherstellung erhebliche Verunreinigungen auf der Waferoberfläche verursachen. So kann er beispielsweise verschiedene Defekte wie Korrosion, Kratzer, Erosion und Verformungen verursachen. Die oben genannten Leistungseinschränkungen des chemisch-mechanischen Planarisierungsschlamms (CMP) stellen im Prognosezeitraum ein erhebliches Hindernis für das globale Marktwachstum dar.
Zukünftige Chancen:
Die kontinuierliche Entwicklung von Solarenergieprojekten wird weiteres Marktwachstumspotenzial schaffen.
Chemisch-mechanische Planarisierungsschlamm (CMP) eignet sich ideal für Photovoltaikmodule, da er in Rotationspolieranlagen eingesetzt wird, um geringe Mengen Oberflächenmaterial von kristallinen Werkstücken zu entfernen. Der zunehmende Fokus auf die Stromerzeugung durch erneuerbare Energien ist ein wichtiger Aspekt, der die Entwicklung neuer Solarprojekte vorantreibt. Beispielsweise befinden sich im Juli 2023 verschiedene Solarenergieprojekte in der Bauphase, darunter ein 119-MW-Solarpark mit einem Volumen von 100 Millionen US-Dollar in Saudi-Arabien (Projektfertigstellung 2025), ein 1,00-MW-Solarprojekt im Smoky Valley in den USA mit einem Volumen von 1 Milliarde US-Dollar (Projektfertigstellung 2025) und weitere. Die Entwicklung neuer Solarenergieprojekte weltweit beschleunigt die Nachfrage nach Photovoltaikmodulen. Dies wird die Nachfrage nach chemisch-mechanischen Planarisierungsslurrys (CMP) für die Herstellung von Photovoltaikmodulen steigern und so in den Prognosejahren lukrative Marktwachstumschancen schaffen.
Marktbericht zu chemisch-mechanischen Planarisierungsslurrys (CMP):
| Berichtsattribute | Berichtsdetails |
| Zeitplan der Studie | 2019–2032 |
| Marktgröße im Jahr 2032 | 854,3 USD Millionen |
| CAGR (2025–2032) | 6,3 % |
| Nach Korntyp | Aluminiumoxid, Zirkonoxid, Diamant und andere |
| Nach Anwendung | Halbleiter, integrierte Schaltkreise, optische Substrate, Photovoltaikmodule und andere |
| Nach Region | Asien-Pazifik, Europa, Nordamerika, Lateinamerika, Naher Osten & Afrika |
| Schlüsselakteure | Hitachi, Ltd., Fujifilm Corporation, Cabot Microelectronics Corporation, Fujimi Corporation, Merck KGaA, DuPont, Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc., BASF SE, Showa Denko Materials Co. Ltd. und AGC Inc. |
Marktsegmentanalyse für chemisch-mechanische Planarisierungsschlämme (CMP):
Nach Kornart:
Die Kornarten werden in Aluminiumoxid, Zirkonoxid, Diamant und andere unterteilt. Im Jahr 2024 hatte das Aluminiumoxidsegment mit 38,95 % den höchsten Marktanteil am Gesamtmarkt für chemisch-mechanische Planarisierungsschlämme (CMP). Aluminiumoxid ist eine äußerst strapazierfähige Keramik mit überlegenen technischen Eigenschaften und hoher Materialverfügbarkeit. Aluminiumoxid bildet die Grundlage für eine breite Palette von chemisch-mechanischen Planarisierungsschlämmen (CMP). Dies macht chemisch-mechanische Planarisierungsschlämme (CMP) zu einer idealen Lösung für Anwendungen wie Halbleiter, integrierte Schaltkreise und mehr. So kündigte der Halbleiterhersteller Texas Instruments im November 2021 Pläne zum Bau einer neuen 300-mm-Halbleiter-Waferfertigungsanlage in Texas, USA, an. Die Entwicklungsarbeiten an der Halbleiteranlage von Texas Instruments begannen Ende 2022 und sollten Anfang 2025 abgeschlossen sein. Das Produktionswachstum der oben genannten Produkte treibt daher die Nachfrage nach Aluminiumoxid zur Gewährleistung höherer Festigkeiten an. Dies wiederum fördert das Segmentwachstum.
Das Zirkonoxidsegment dürfte im Prognosezeitraum jedoch das am schnellsten wachsende Segment sein. Dies ist auf die zunehmenden Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten zur Verwendung von Zirkonoxid in chemisch-mechanischen Planarisierungsschlämmen (CMP) weltweit zurückzuführen, die das Segmentwachstum fördern.
Nach Anwendung :
Das Anwendungssegment umfasst Halbleiter, integrierte Schaltkreise, optische Substrate, Photovoltaikmodule und weitere Anwendungen. Im Jahr 2024 hatte das Halbleitersegment den größten Marktanteil im Markt für chemisch-mechanische Planarisierungspasten (CMP). Chemisch-mechanische Planarisierungspasten (CMP) zeichnen sich durch wichtige Leistungsmerkmale wie geringe Defektivität und hohe Abtragsraten aus. Diese Leistungsmerkmale gewährleisten hohe Abtragsraten, geringe Defektivität und spezifische Selektivität für mehrere Schichten. Daher sind chemisch-mechanische Planarisierungspasten (CMP) eine ideale Lösung für Halbleiter. So gaben beispielsweise STMicroelectronics und GlobalFoundries, zwei führende Halbleiterhersteller, im Juli 2022 den Bau eines neuen Halbleiterwerks in Frankreich bekannt. Der Bau dieser Anlage soll bis 2026 abgeschlossen sein. Der Bau neuer Halbleiterproduktionsanlagen erhöht daher die Nachfrage nach chemisch-mechanischen Planarisierungspasten (CMP), um eine robuste Leistung zu gewährleisten. Dieser entscheidende Faktor wird das Marktwachstum in den kommenden Jahren beschleunigen.
Es wird jedoch erwartet, dass das Segment der integrierten Schaltkreise im Prognosezeitraum das am schnellsten wachsende Segment sein wird. Dieses Wachstum ist auf Faktoren wie steigende Investitionen in neue Fertigungsanlagen für integrierte Schaltkreise, gesteigerte Produktionsaktivitäten und weitere Faktoren zurückzuführen.
Nach Regionen:
Das regionale Segment umfasst Nordamerika, Europa, den Asien-Pazifik-Raum, den Nahen Osten und Afrika sowie Lateinamerika.
Im Jahr 2024 hatte der asiatisch-pazifische Raum mit 36,55 % den höchsten Marktanteil und wurde auf 154,8 Millionen US-Dollar geschätzt. Es wird erwartet, dass dieser Wert bis 2032 260,13 Millionen US-Dollar erreichen wird. Im asiatisch-pazifischen Raum hatte China im Basisjahr 2024 mit 25,55 % den höchsten Marktanteil. Die zunehmende Verwendung von chemisch-mechanischer Planarisierung (CMP) in Anwendungen wie Halbleitern, integrierten Schaltkreisen, Photovoltaikmodulen und anderen treibt das Marktwachstum im asiatisch-pazifischen Raum voran. Laut dem japanischen Marktforschungsinstitut für Elektronik und Informationstechnologie (JEITA) belief sich die japanische Elektronikproduktion, darunter Halbleiter, integrierte Schaltkreise und andere Produkte, im Jahr 2020 auf 9.964.769 Millionen japanische Yen (93.389,8 Millionen US-Dollar) und im Jahr 2021 auf 10.954.346 Millionen japanische Yen (99.772,2 Millionen US-Dollar). Die jährliche Wachstumsrate der japanischen Elektronikindustrie, darunter Halbleiter, integrierte Schaltkreise und andere Produkte, betrug 2021 9,9 %. Die Entwicklung dieser Branchen fördert somit das Marktwachstum im asiatisch-pazifischen Raum.
Darüber hinaus wird für Nordamerika im Prognosezeitraum ein deutliches Wachstum erwartet, mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 6,9 % zwischen 2025 und 2032. Dies ist auf die Präsenz verschiedener Akteure im Bereich der chemisch-mechanischen Planarisierungs-(CMP)-Slurrys und die Entwicklung neuer Halbleiterfertigungsanlagen zurückzuführen.
Wichtigste Akteure & Marktanteile:
Der Markt für chemisch-mechanische Planarisierungs-Slurrys (CMP) ist hart umkämpft. Zahlreiche große Akteure sowie zahlreiche kleine und mittlere Unternehmen sind vertreten. Diese Unternehmen verfügen über starke Forschungs- und Entwicklungskapazitäten und sind dank ihrer umfangreichen Produktportfolios und Vertriebsnetze stark am Markt vertreten. Der Markt ist von intensivem Wettbewerb geprägt. Unternehmen konzentrieren sich darauf, ihr Produktangebot zu erweitern und ihren Marktanteil durch Fusionen, Übernahmen und Partnerschaften zu erhöhen. Zu den wichtigsten Marktteilnehmern gehören:
- Hitachi, Ltd.
- Fujifilm Corporation
- BASF SE
- Showa Denko Materials Co. Ltd
- AGC Inc.
- Cabot Microelectronics Corporation
- Cabot Microelectronics Corporation
- Merck KGaA
- DuPont
- Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc.
Aktuelle Branchenentwicklungen:
- Im Februar 2022 eröffnete Merck Korea, ein führender Entwickler von Halbleitermaterialien, eine neue Produktionsanlage für Halbleiter-Slurrys chemisch-mechanisches Polieren (CMP) in Südkorea. Merck Korea wird dort Halbleitermaterialien herstellen. Daher wird der Bau neuer CMP-Slurry-Anlagen zur Gewährleistung einer effizienten Halbleitermaterialproduktion das Marktwachstum in den kommenden Jahren vorantreiben.
